據(jù)媒體報道，上海微電子裝備(集團)股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產(chǎn)的沉浸式光刻機。

雖然這與當今國際頂尖的7nm乃至是5nm光刻機還有數(shù)代的隔閡，但是差距已經(jīng)大大縮小，畢竟在此之前國產(chǎn)光刻機還是90nm。

據(jù)悉，上海微電子是國內(nèi)技術(shù)最領(lǐng)先的光刻設(shè)備廠商，從低端切入各個細分市場，現(xiàn)已成為封測龍頭企業(yè)的重要供應(yīng)商，國內(nèi)市場占有率高達80%，全球市場占有率也有40%，同時旗下LED/MEMS/功率器件光刻機性能指標領(lǐng)先，LED光刻機市占率第一。

上海微電子現(xiàn)有4大系列的光刻機產(chǎn)品，其中600系列步進掃描投影光刻機面向IC前道制造，采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術(shù)，可用于90nm、110nm、280nm工藝和200mm、300mm晶圓生產(chǎn)。

500系列面向IC后道先進封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。